第一三八七章 折中方案
孫健估計，EUVLLc聯盟在明年底前就能證明製造EUV光刻機在理論上的可行性，但EUV光刻機量產最起碼還需要10年，如今也不能告訴大家，到時由bSEc免費提供193nm浸沒式光刻機專利技術給GcA。
bSEc是在GcA擁有的第一代193nmArF準分子激光器專利技術基礎上研發成功193nm浸沒式光刻機技術，核心還是GcA擁有技術專利的193nm準分子激光器，GcA研製的第二代、第三代193nm準分子激光器也授權bSEc技術；雖然浸沒式光刻技術屬於bSEc重新開發的公司發明專利，但按照當初簽訂的專利技術授權轉讓合同，要免費授權給GcA使用，就像GcA去年研發成功的第三代磁懸浮式雙工作臺系統，專利還是屬於bSEc，授權GcA免費使用。
1.5um-800nm製程工藝的光刻機配套6英寸晶圓，500nm-180nm製程工藝光刻機配套8英寸晶圓，90nm以下的都配套12英寸晶圓，相配套的磁懸浮工作臺系統分別稱爲第一代、第二代、第三代，一代中還有子代，核心技術還是bSEc擁有公司發明專利的第一代。
GcA研發成功第二代、第三代磁懸浮式雙工作臺系統通過夏季常院士領導的光刻機自動化研究所改進後，青出於藍而勝於藍，返還GcA使用，授權其他光刻機公司升級。
bSEc光刻機自動化研究所將來研製爲12英寸晶圓、65nm製程工藝浸沒式光刻機配套的磁懸浮式雙工作臺系統將稱爲第四代，10nm稱爲第五代、7nm稱爲第六代……bSEc擁有的磁懸浮式雙工作臺系統的公司發明專利不會失效。
兩家公司雖然都是孫健控股，手背手心都是肉，但嚴格按照兩國法律辦事，不會留下被人攻擊的把柄。
以GcA如今的江湖地位、財力和技術實力，願意同SVG聯合開發157nm激光器，對雙方都有利，如何說服papken同意就不是孫健關心的事了。
“好的，董事長！”
“好的，董事長！”
孫董事長同意兩條腿走路，艾德里安和湯普森放心了，他倆有信心說服papken。
其他董事也露出笑容。
孫健也沒辦法說服公司高層放棄研究157nm激光器，只能折中。
1999年財報顯示，SVG的銷售收入只有2.7億美元，不到GcA的5%，157nm激光器技術路線在前世已被證明沒有遠大前途，孫健不能明說，也說不清楚，正好借這次董事會的機會否決了GcA高層打算投資10億美元收購SVG的意向。
前世，爲了能進入EUVLLc聯盟，給美國政府一份投名狀，ASmL花費16億美元收購了市值10億美元的SVG，拿到了157nm激光器需要配置的反折射鏡頭技術，由於已經研發成功193nm浸沒式光刻機技術，光刻效果超過Nikon的157nm光刻機技術，SVG的157nm激光器技術被束之高閣。
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